高介电常数Ta/Al2O3复合膜的制备及性能研究

摘要：

首次在溴的丙酮溶液中,以钽为阳极,氧化铝为阴极,通过直流电沉积方法制备了Ta/Al2O3复合膜.借助LCR数字电桥、SEM、EDS等测试手段对Ta/Al2O3复合膜的介电性能及微观结构进行了分析与表征.研究表明:Ta/Al2O3复合氧化膜的表面沉积了质量分数为41.77%的钽.与普通铝阳极(Al2O3)氧化膜相比,复合氧化膜的电容提高了50%以上,这主要归因于介电常数较高的钽在复合氧化膜表面的沉积.

关键词：氧化铝、钽、电沉积、复合膜、介电性能

所属期刊栏目：29

分类号：TM535(电器)

资助基金：南京理工大学科研基金资助项目XKF05018

在线出版日期：2010-09-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：40-42