10.3969/j.issn.1001-2028.2010.02.015
溅射功率对Zr, Al共掺杂ZnO薄膜结构和性能的影响
室温下,采用直流磁控溅射法,在载玻片衬底上制备出了Zr, Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜.研究了溅射功率对薄膜的组织结构、表面形貌和光电学性能的影响.结果表明,制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向.当溅射功率为150 W时,薄膜电阻率达到最小值1.66×10~(-3) Ω·cm,在可见光区平均透过率超过93%.
磁控溅射、Zr、Al共掺杂、ZnO、溅射功率、透明导电薄膜
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O484;TN304.055 (固体物理学)
山东省自然科学基金资助项目ZR2009AL017;山东理工大学"功能材料"创新研究团队资助项目CX0602
2010-04-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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