10.3969/j.issn.1001-2028.2009.12.013
低压电子铝箔耐蚀性的研究与应用
采用对比实验,研究了腐蚀工艺对低压电子铝箔耐蚀性的影响.当腐蚀溶液中w(HCl)为15%~25%、w(H_2SO_4)为10%~20%,温度为85 ℃,电流密度为0.40 A/cm~2,腐蚀时间为3 min时,铝箔腐蚀效果最佳,其耐蚀性数值(腐蚀前后质量差值与原光箔质量之比)为0.70%~0.83%.该工艺可迅速准确地判断低压电子铝箔的耐蚀性,平均每个样品所花时间仅为26 min.
腐蚀工艺、低压电子铝箔、耐蚀性
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TM535 (电器)
2010-01-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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