W/Al双层膜系的纳米压痕实验及有限元仿真

摘要：

采用磁控溅射法在CAT.No.7101玻璃基底上沉积了W/Al双层金属膜,并对其进行纳米压痕实验.利用非线性有限元法对压痕过程进行仿真,分析了膜基体系的应力分布.结果表明:磁控溅射法制备的薄膜组织均匀、力学性能好.W/Al双层金属膜系中的W薄膜的弹性模量与硬度平均值分别为75.433 5 GPa、6.206 GPa,其值与块状W材料的相应参数差别较大.仿真曲线与实验结果基本相符,能够反映出膜基体系的力学状态以及应力分布规律.

关键词：磁控溅射、纳米压痕、力学性能、有限元仿真、应力分布

所属期刊栏目：28

分类号：TN305.92 (半导体技术)

资助基金：江苏省自然科学基金资助项目BK2008227;广西自然科学基金资助项目0339037

在线出版日期：2010-01-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：60-63