10.3969/j.issn.1001-2028.2009.10.013
ZnO:Ti透明导电薄膜的制备与光电性能研究
采用直流磁控溅射法,在水冷7059玻璃衬底上制备了具有高透射率和相对低电阻率的掺钛氧化锌(ZnO:Ti)透明导电薄膜,研究了溅射偏压对ZnO:Ti 薄膜结构、形貌和光电性能的影响.结果表明,ZnO:Ti 薄膜为六角纤锌矿多晶结构,具有c轴择优取向.溅射偏压对ZnO:Ti 薄膜的结构和电阻率有重要影响.当溅射偏压为10 V时,电阻率具有最小值1.90×10–4 Ω· cm.薄膜具有良好的附着性能,可见光区平均透射率超过90%.该ZnO:Ti薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极.
ZnO:Ti膜、透明导电薄膜、偏压、磁控溅射
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TN304.2;TN304.055(半导体技术)
山东理工大学创新团队支持计划资助项目2006
2009-12-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
41-43,53