sol-gel法制备纳米TiO2-SiO2宽带高增透膜

摘要：

通过模拟计算设计出一种透射比为99%、包含一层TiO2薄膜和一层SiO2薄膜的宽带高增透膜.两层薄膜均由溶胶-凝胶法制得并采用提拉法成形于玻璃基片上.对增透膜样品的透射比、表面形貌、膜厚等进行了表征,考察了提拉速度、退火温度、催化条件等对其透射比、表面均匀性的影响.结果表明:增透膜的使用提高了玻璃基片的透射比;当提拉速度为9 cm/min,增透膜厚约为255 nm时,基片在400～800 nm波段的透射比提高了7%.控制退火温度,可以使增透膜在某些波段的透射比增强.增透膜样品的表面均匀性良好,室温下膜层的均方根表面粗糙度(RMS) 为1.682,平均粗糙度(RA)为1.208,在550 ℃的温度以下,随着退火温度升高,表面粗糙度降低.

关键词：增透膜、透射率、sol-gel法、膜系设计、表面形貌

所属期刊栏目：28

分类号：O484 (固体物理学)

资助基金：西北大学研究生交叉学科资助项目08YJC14;国家大学生创新性实验计划资助项目国081069706;西北大学校级大学生创新实验计划资助项目校200815

在线出版日期：2009-11-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1-4