退火温度对WO3薄膜结构及气敏性能的影响

摘要：

采用直流磁控溅射法制备了WO3薄膜,并在350～550 ℃时对薄膜进行退火处理,研究了退火温度对薄膜结构及气敏性能的影响.结果表明:退火前及350 ℃退火后的薄膜为非晶态,450 ℃和550 ℃退火后的薄膜为WO3-x型晶态;随退火温度的提高,薄膜厚度增加,晶粒度增大.550 ℃退火后薄膜的厚度,较450 ℃退火后薄膜厚30 nm,晶粒度相差8 nm;450 ℃和550 ℃退火后的薄膜,在150 ℃时对体积分数为0.05%的NO2的灵敏度接近于22.

关键词：WO3薄膜、退火、晶体结构、气敏性能

所属期刊栏目：28

分类号：O649;TP212 (物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：重庆市教育委员会科学技术研究资助项目KJ070804

在线出版日期：2009-09-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：50-52,65