10.3969/j.issn.1001-2028.2008.12.019
PLD法生长Al2O3基ZnO薄膜的特性
在不同衬底温度下,用脉冲激光沉积法(PLD),在Al2O3(0001)平面上生长了ZnO薄膜.研究了衬底温度对其结晶质量、电学性质以及发光性质的影响.结果显示:XRD在2θ为34°处出现了唯一的ZnO(0002)衍射峰;ZnO薄膜的电阻率随衬底温度的升高而增大;在衬底温度为500 ℃时,出现了位于410 nm附近的特殊的光致发光(PL)峰.
无机非金属材料、PLD、ZnO、薄膜、Al2O3
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TQ132.4
国家自然科学基金资助项目90301002
2009-01-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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