退火工艺对La-Nb共掺杂Bi4Ti3O12薄膜结构的影响

摘要：

采用sol-gel法制备了Si基Bi3.25La0.75Ti2.94Nb0.06O12.03(BLTN)铁电薄膜,研究了退火温度、升温速率和退火时间对BLTN薄膜微观结构的影响.结果表明:制备的BLTN薄膜具有单一的钙钛矿结构,且为随机取向,表面平整致密;退火温度由550 ℃升高到750 ℃时,薄膜的衍射峰强度增强,晶粒尺寸由65 nm增大到110 nm;退火升温速率由10 ℃/min提高为20 ℃/min时,薄膜的晶化程度降低;退火时间对薄膜的晶相结构影响不大,但时间超过30 min会造成薄膜表面孔洞增多、致密性下降.

关键词：无机非金属材料、铁电薄膜、BLTN、微观结构、退火温度、升温速率、退火时间

所属期刊栏目：27

分类号：TM282 (电工材料)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50262001

在线出版日期：2008-07-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：65-68