10.3969/j.issn.1001-2028.2008.05.004
碳纳米管薄膜的电泳沉积与场发射性能
采用电泳法在Si基片上沉积碳纳米管(CNTs)薄膜.研究了电泳极间距、电泳时间及电泳电压等对沉积的薄膜形貌结构与场发射性能的影响.SEM、高倍光学显微镜和场发射性能测试结果表明,保持阴阳极间距为2 cm,在100 V的直流电压下电泳2 min所获得的CNTs薄膜均匀、连续、致密且具有最好的场发射性能,其开启电场强度仅为1.19 V/μm,当外加电场强度为2.83 V/μm时,所获得的最大发射电流密度可达14.23×10-3 A/cm2.
电子技术、碳纳米管薄膜、场发射、电泳沉积
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O462.4;TB383 (真空电子学(电子物理学))
天津市自然科学基金05YFJZJC00200
2008-07-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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