10.3969/j.issn.1001-2028.2007.08.018
中频交流磁控溅射制备AZO薄膜及退火工艺
以锌铝合金为靶材,采用工业生产设备,用中频交流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了铝掺杂氧化锌(AZO)透明导电薄膜,研究了氩氧比、退火温度、退火时间对薄膜结构、光学和电学性能的影响.结果表明,氩气和氧气体积流量比为3:1时常温下得到薄膜的方阻值最低,400 ℃真空退火1 h后薄膜可见光平均透过率由84.0 %上升到86.7 %,方阻值由5 000 Ω/□下降到108 Ω/□.
无机非金属材料、中频磁控溅射、AZO薄膜、退火
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TN304.2 (半导体技术)
2007-09-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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