10.3969/j.issn.1001-2028.2006.06.001
中高压铝电解电容器阳极箔研究进展
从铝箔杂质和腐蚀液添加剂两个方面概述了国内外在提高中高压铝电解电容器比电容方面的研究进展,其中包括镁、铁、硅、铅等杂质及缓蚀剂和表面活性剂的研究.并介绍了铝电解电容器的几种腐蚀机理,如氯离子的作用机理、腐蚀过程中电流与电位的关系、空位模型.最后预测了铝电解电容器新工艺的可能开发方向.
电子技术、铝电解电容器、综述、阳极箔、电容量、腐蚀
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TN304(半导体技术)
2006-06-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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