射频鞘层中等离子体浓度对离子动量的影响

摘要：

利用射频鞘层模型,推出了离子到达被加工材料表面时的动量的表达式.利用表达式分析了离子轰击材料表面的动量与等离子体浓度的关系.理论分析与实验数据有较好的吻合.等离子体浓度的增大对鞘内离子动量起抑制作用:随等离子体浓度(1015～1016 m-3)增加,离子动量(10-22～10-21kg·m·s-1)减小.等离子体浓度较小(约<3×1015m-3)时,对离子动量有较显著的影响;随等离子体浓度增大(约>3×1015m-3),其作用越来越平缓.

关键词：半导体技术、等离子体、鞘层、射频、离子、动量、等离子体浓度

所属期刊栏目：25

分类号：TN4(微电子学、集成电路（IC）)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2002 A A 420050;国家研究发展基金2003 C B 716202;中国科学院资助项目50275118

在线出版日期：2006-06-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：65-68