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10.3969/j.issn.1001-2028.2006.05.007

热丝化学气相沉积制备多晶硅薄膜的研究

引用
采用热丝化学气相沉积技术制备了多晶硅薄膜.利用Raman、XRD、SEM等检测手段,系统研究了沉积气压、衬底温度、衬底与热丝间距离、衬底种类等实验参数对多晶硅薄膜晶态比、晶面择优取向、晶粒尺寸的影响.得出优化条件:沉积气压42 Pa,衬底温度250℃,衬底与热丝间距离48 mm,在玻璃衬底上制备出晶态比Xc>90%,择优取向为(111),横向晶粒尺寸为200~500 nm,纵向晶粒尺寸为30 nm左右的优质多晶硅薄膜.

无机非金属材料、热丝化学气相沉积、多晶硅薄膜、晶态比、择优取向

25

TB3(工程材料学)

辽宁省优秀青年教师培养基金893204

2006-06-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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51-1241/TN

25

2006,25(5)

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