10.3969/j.issn.1001-2028.2006.05.003
脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜的研究进展
基于氧化锌薄膜紫外光发光的实现,ZnO薄膜成为新的研究热点.综述了各种沉积条件对脉冲激光沉积(PLD)技术生长的氧化锌薄膜的微结构、光学和电学性质的影响,ZnO薄膜的厚度在超过400 nm时,呈现出了近似块状的性质.采用PLD技术,可以在适当的条件下制备具有特定功能的氧化锌薄膜.
半导体技术、脉冲激光沉积、综述、氧化锌薄膜、衬底温度、氧分压
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TN3(半导体技术)
中国科学院资助项目90301002;90201025
2006-06-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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