10.3969/j.issn.1001-2028.2005.12.016
制备高质量ZnO光电薄膜的关键技术
提高ZnO薄膜的质量,使之适应制备光电器件的要求,是目前ZnO薄膜研究的一个主要问题.在对近年来人们在ZnO薄膜的制备上所作的工作进行调研的基础上,总结出对提高薄膜的质量有普遍参考价值的三种关键技术:"缓冲层","氢钝化"和"表面化学处理".对三种关键技术的主要内容,及其在提高薄膜结晶质量与光电性能方面的效果和物理机制,作了较详细的介绍.并对这些技术提出了自己的一些见解.
电子技术、ZnO薄膜、综述、缓冲层、氢钝化、表面化学处理
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O472.3 (半导体物理学)
广东省博士启动基金04011770
2005-12-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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