AlN基板表面处理对薄膜附着力的影响

摘要：

用扫描电镜和X射线能谱分析仪研究高温氧化及薄膜工艺过程中主要溶液对氮化铝陶瓷(AlN)基板的影响.结果表明:高温氧化使表面氧含量增加,在1 000℃氧化2 h,表面已形成致密的氧化层.碱性溶液清洗和去离子水煮会使表面产生多孔的疏松化合物.采用高温氧化、酸性清洗、溅射前加强离子轰击等措施,磁控溅射TiCu,其薄膜膜层附着力不低于15 MPa.

关键词：无机非金属材料、AlN、表面处理、薄膜、附着力

所属期刊栏目：24

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2005-10-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：45-47