10.3969/j.issn.1001-2028.2005.07.002
sol-gel纳米晶二氧化锡薄膜的制备及表征
以SnCl4为原料,采用sol-gel技术,应用间接成胶法,在玻璃片上制备了纳米晶SnO2薄膜及粉体,以其灵敏度、响应时间和工作温度作为评价气敏性能的标准,对制备工艺参数进行了优化,并用DSC-TG、XRD、AFM等手段对样品进行了表征.结果表明,水与乙醇体积比为3:1,草酸与四氯化锡摩尔比为0.3:1,在500℃下退火的薄膜表面平整,平均粒度在20 nm左右,且相应的薄膜元件对丙酮蒸气具有良好的选择性和较高的灵敏度、较短的响应时间和较低的工作温度(≈190℃).
电子技术、sol-gel法、纳米晶、二氧化锡、气敏特性
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O484.1(固体物理学)
陕西省自然科学基金FE02327
2005-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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