后处理工艺对PCT薄膜形貌与结构的影响

摘要：

采用射频磁控溅射技术,利用快速退火工艺制备出了大面积(φ120 mm)表面光滑、连续、均匀的(Pb,Ca)TiO3(PCT)薄膜.原子力显微镜和X射线衍射分析结果表明,快速退火处理工艺较常规退火处理工艺具有晶化温度低、晶化时间短、薄膜结晶性能好、易与微电子工艺兼容等优点.经500～550℃快速退火处理后,PCT薄膜已完全形成钙钛矿结构,最佳晶化温度约为550℃.

关键词：无机非金属材料、PCT薄膜、射频磁控溅射、退火

所属期刊栏目：23

分类号：TM22(电工材料)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划

在线出版日期：2004-11-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：9-11