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10.3969/j.issn.1001-2028.2001.06.005

铝电解电容器用阳极箔扩面腐蚀机理的研究

引用
研究了高纯电子铝箔在HCl溶液中的电蚀行为,提出了Cl-对铝的氧空位输运侵蚀机理,指出Cl-在侵蚀膜表面吸附,以及在膜内部传输的机制,并利用该机理模型很好地解释了高纯电子铝箔在HCl溶液中的电蚀行为.

铝箔、电化学腐蚀、机理

20

TM535(电器)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

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