10.3969/j.issn.1001-2028.2001.02.008
射频溅射制备钛酸铅薄膜
采用射频磁控溅射方法制备钙钛矿型钛酸铅铁电薄膜。通过各种不同溅射工艺条件研究,在适宜的溅射条件和基片温度下,溅射获得的PbTiO3薄膜表面晶粒大小均匀,膜层致密性好,经XRD分析证实,薄膜为钙钛矿型结构PbTiO3。外加Pt电极对薄膜进行测试表明,溅射得到的PbTiO3薄膜具有较好的电滞回线特性。
铁电薄膜、射频溅射、电滞回线、钛酸铅薄膜、晶化
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TN282(光电子技术、激光技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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