射频溅射制备钛酸铅薄膜

摘要：

采用射频磁控溅射方法制备钙钛矿型钛酸铅铁电薄膜。通过各种不同溅射工艺条件研究，在适宜的溅射条件和基片温度下，溅射获得的PbTiO3薄膜表面晶粒大小均匀，膜层致密性好，经XRD分析证实，薄膜为钙钛矿型结构PbTiO3。外加Pt电极对薄膜进行测试表明，溅射得到的PbTiO3薄膜具有较好的电滞回线特性。

关键词：铁电薄膜、射频溅射、电滞回线、钛酸铅薄膜、晶化

所属期刊栏目：20

分类号：TN282(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：16-18