10.3969/j.issn.1001-2028.2000.04.013
纳米二氧化硅粉体的制备
以工业硅酸钠和盐酸为原料,采用化学沉淀法制备出纳米二氧化硅.工艺条件为:温度25~35℃、pH值4~6、反应液质量浓度1.15g/L、反应时间10min,添加一定量表面活性剂和分散剂.制得的二氧化硅,粒径40~50nm、比表面积大、分散性好、质量优良,已用于工业生产.
二氧化硅、纳米材料、粉体制备
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TM215.7(电工材料)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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