10.3969/j.issn.1000-6281.2023.06.007
In/Nb共掺杂TiO2薄膜结构特性的电子显微学研究
本文研究了In/Nb共掺杂TiO2(TINO)薄膜在LaAlO3(001)和m面α-Al2O3 衬底上的生长行为和显微结构特征.研究发现TINO薄膜在LaAlO3 衬底上呈现锐钛矿结构(A-TINO),在m面α-Al2O3 衬底上呈现金红石结构(R-TINO).薄膜与衬底的晶体学取向关系分别为:(001)[100]A-TINO//(001)[100]LaAlO3 和(001)[100]R-TINO//(1(1)00)[0001]α-Al2O3.通过原子分辨率扫描透射高角环形暗场像技术确定了 A-TINO/LaAlO3 和R-TINO/α-Al2O3 异质界面以及薄膜中孪晶和晶界的精细结构.本工作有助于理解TiO2 基薄膜的外延生长行为以及掺杂元素在材料中的偏聚特征.
二氧化钛、薄膜材料、掺杂、缺陷、界面结构
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O484.1;O766+.1;O77+1(固体物理学)
广东省基础与应用基础研究重大项目No.2021B0301030003
2023-11-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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