纳米Ir薄膜中缺陷结构的原子尺度研究

摘要：

金属铱(Ir)因具有高密度,高熔点,高硬度等特点而被广泛应用于航空航天、军工等高新科技领域.但Ir的塑性差,严重影响其进一步广泛应用.金属自身的结构及缺陷对其力学性能具有重要影响,研究Ir的原子尺度微观结构可为其力学性能优化提供重要参考.本文主要利用透射电子显微镜(TEM)对纳米Ir薄膜中的缺陷类型和缺陷密度进行了研究.发现薄膜中存在高密度的孪晶以及位错.其中,薄膜中的孪晶密度为1.6×103(1/μm2).此外,研究还发现薄膜中有两大类缺陷的相互作用:位错与孪晶相互作用以及孪晶与孪晶相互作用.前者包括层错与孪晶相互作用以及全位错对孪晶的钉扎作用;孪晶之间的相互作用形态包括头对头对接式,三重孪晶和五重孪晶等多种形态.

关键词：面心立方、原子尺度、缺陷、位错、孪晶界、多重孪晶

所属期刊栏目：40

分类号：O469;O77;TG115.21+5.3(真空电子学（电子物理学）)

资助基金：国家重点研发计划资助项目;国家自然科学基金资助项目;北京市自然科学基金重点资助项目

在线出版日期：2021-05-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：101-107