10.3969/j.issn.1000-6281.2011.06.002
银纳米晶体薄膜在纳米压痕下的微结构转变
利用直流磁控溅射在SiO2/Si双层基底上制备厚度为60 nm的银纳米晶体薄膜,使用纳米压痕仪对其进行压痕,使用原子力显微镜对压痕区域进行形貌表征,将压痕后的银薄膜转移到透射电子显微镜中观察研究微结构变化.结果表明,压痕区域呈正三角形,边缘有堆起现象;压痕前沉积态薄膜的晶粒较小呈等轴状,压痕后晶粒较大一般呈条带状,长度方向垂直于压痕边缘;压痕区域内的晶粒内出现了大量的形变孪晶,孪晶方向一般亦垂直于压痕边缘.
银、纳米压痕、透射电子显微镜、形变孪晶
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O614.122;TH140;TG115.21+5.3;O76(无机化学)
973国家重点基础研究发展计划2009CB623702;国家自然科学基金资助项目10904001;北京市教委重点基金资助项目KZ201010005002
2012-03-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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