运用精确电压衬度像技术实现精确定位的原位电子束纳米刻蚀:制造具有悬挂纳米线结构的纳米器件

摘要：

本文演示了运用精确电压衬度像技术实现原位电子束纳米刻蚀技术的精确定位,并运用该技术制作成具有悬挂结构的纳米开关.通过运用精确电压衬度像定位技术,能够很好地控制偏转电极的定位,误差可减少到大约10 nm.通过该技术,不用通过任何刻蚀过程只运用一次电子束纳米刻蚀,便可实现将分散的纳米线夹在两个电阻层中间形成悬挂结构.在原位电子束刻蚀的整个过程中,无需移动样品台从而消除了样品台的移动误差.因此,整个过程中不需要高精确的激光台和定位标记,从而简化了传统的电子束纳米刻蚀工艺.通过该方法制作的纳米开关随着施加电压的改变很好地实现了闭合和断开的状态.这种简化的过程提供了一种简单、低成本、快速的通过改装过的场发射扫描电子显微镜(FESEM)来制作纳米线悬挂结构的方法,并可运用该技术进一步制造多层结构和特殊的纳米器件.

关键词：原位电子束纳米刻蚀、扫描电子显微镜、纳米器件、纳米线

所属期刊栏目：29

分类号：TB383;TG115.21+5.3(工程材料学)

资助基金：美国国家自然科学基金会NSF-0403673;美国国防部高级研究计划局HR0011-07-1-0032;路易斯安那州基金管理会[LEQSF2007-12.ENH-PKSFI-PRS-04 and LEQSF2008-11-RD-B-10]的资助

在线出版日期：2010-09-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：213-218