硅表面直接生长十八烷基硅烷小分子自组装单层抗蚀剂的亚稳态氦原子光刻技术

摘要：

选取不同尺寸和形状的物理掩模,以硅表面直接生长的十八烷基硅烷小分子自组装单分子层作为抗蚀剂,硅(100)为衬底,亚稳态氦原子作为曝光源,利用湿法化学刻蚀方法在衬底上制备具有纳米尺寸分辨率的硅结构图形.基于扫描电子显微镜、原子力显微镜的表征结果表明:原子光刻技术可以把具有纳米尺度分辨率的正负图形通过化学湿法刻蚀技术很好地传递到硅片衬底上,特征边缘分辨率达到20 nm左右,具有较高的可信度和可重复性.正负图形相互转化的临界曝光原子剂量约为5×1014 atoms cm-2,曝光时间约为20 min.

关键词：原子光刻、掩模、自组装单分子层

所属期刊栏目：29

分类号：O484;TG115.21+5.7;TN16(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金面上项目10874160

在线出版日期：2010-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：123-128