采用EBSD方法研究高纯Al溅射靶材的微观结构

摘要：

高纯Al溅射靶材在电子信息产品制造业有着广泛应用.微观结构与组织的均匀性、晶粒尺寸和取向分布对高纯Al溅射靶材的性能有很大的影响.本文采用EBSD技术对高纯Al溅射靶材的晶粒取向分布进行了分析,探索了晶粒取向与溅射速率关系,并采用EBSD大面积扫描对高纯Al溅射靶材的晶粒尺寸及微观结构与组织均匀性进行了研究.

关键词：高纯Al、靶材、晶粒取向、EBSD

所属期刊栏目：27

分类号：TG146.2+1;TG115.21+5.3;TG115.23(金属学与热处理)

在线出版日期：2009-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：491-494