近场纳米光纤探针腐蚀制备技术概述

摘要：

纳米光纤探针是扫描近场光学显微镜的常用关键器件,化学腐蚀法制备近场光学光纤探针是基于腐蚀液弯液面的高度随光纤芯径的动态变化过程.从流体力学杨-拉普拉斯方程出发,研究了弯液面高度随光纤芯径大小的变化关系,分析了影响腐蚀法制备纳米光纤探针的相关因素,追踪了利用化学腐蚀制备纳米光纤探针的最新进展,介绍了静态腐蚀法、动态腐蚀法和选择腐蚀法等多种方法,并分析了每种方法的特点,作了比较和总结.

关键词：化学腐蚀法、扫描近场光学显微镜、光纤探针、弯液面

所属期刊栏目：25

分类号：O351;TN253;TH742.9(流体力学)

资助基金：国家自然科学基金30270367;教育部高等学校博士学科点专项科研基金20020141018

在线出版日期：2006-12-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：450-454