水稻不同品种叶表面硅质细胞的扫描电镜观察

摘要：

应用扫描电子显微镜对8个不同品种的水稻(Oryza sativa L.)叶片表面硅质细胞的形态结构进行了观察,并首次用X射线能谱分析其硅含量.结果发现8个品种间叶片表面硅质细胞形态结构和硅元素含量差异明显,四倍体品种不但硅质细胞大,而且硅元素含量也较高,其中矮脚南特-4x叶片表面硅质细胞表面积最大,达301.40mm2,硅元素相对含量也最高,为32.77 wt.%;广陆矮4号-4x硅质细胞表面积次之,为192.50mm2,硅元素相对含量为25.80 wt.%.这2个四倍体品种的气孔硅乳突数都是8个,比二倍体品种多1倍.四倍体品种田间表现植株直立、基部通风性好、抗倒伏能力和抗病虫性均较强.二倍体品种零轮、P23、L202、D27 F2(野生稻杂种)、华粳籼74和E5等品种硅质细胞表面积明显比四倍体的小,平均小3.6倍;硅元素含量也较低,平均比四倍体的低1.4倍;抗性较2个四倍体水稻品种差.本文的结果初步说明水稻叶片硅质细胞大小和含量与抗性可能存在密切的相关.

关键词：水稻叶片、硅质细胞、硅元素、扫描电子显微镜

所属期刊栏目：25

分类号：S511;Q942;Q336(禾谷类作物)

资助基金：中国科学院资助项目30270814

在线出版日期：2006-05-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：146-150