10.3969/j.issn.1000-6281.2006.02.003
电子束光刻技术的原理及其在微纳加工与纳米器件制备中的应用
电子束光刻是微电子技术领域重要的光刻技术之一,它可以制备特征尺寸10nm甚至更小的图形.随着电子束曝光机越来越多地进入科研领域,它在微纳加工、纳米结构的特性研究和纳米器件的制备等方面都呈现出重要的应用价值.本文以几种常见的电子束曝光机为例,说明电子束光刻的工作原理和关键技术,并给出一些它在纳米器件和微纳加工方面的应用实例.
电子束光刻、微纳加工、纳米器件
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TN305.7;TN405;TG115.21+5.3(半导体技术)
中国科学院资助项目90406009
2006-05-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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