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10.3969/j.issn.1000-6281.2005.04.096

用高分辨电子能量损失谱方法(HR-EELS)研究铁电薄膜

引用
@@ 本文主要利用扫描透射电镜下的高分辨电子能量损失谱方法研究BaTiO3(10nm)/SrTiO3(50nm)铁电多层薄膜[1]和高介电Y2O3/Si(001)结构[2]的界面化学反应及缺陷形成.在BaTiO3/SrTiO3多膜中,选区电子衍射图像表明BaTiO3薄层的极化方向垂直于基底表面.

高分辨、电子、能量损失谱、谱方法、铁电薄膜、ferroelectric thin films、铁电多层薄膜、扫描透射电镜、界面化学反应、衍射图像、缺陷形成、极化方向、基底表面、方法研究、高介电、选区、结构、垂直

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O484(固体物理学)

2005-09-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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11-2295/TN

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