10.3969/j.issn.1000-6281.2004.04.133
PECVD制备a-C:H:N薄膜的微观结构研究
@@ 非晶含氢碳膜(amorphous hydrogenated carbon a-C:H films)在力学、热学、电学、化学、光学等方面具有优异的性能,被广泛应用于诸多领域,有巨大的应用前景.随着a-C:H薄膜制备技术的进一步完善,在此基础上的改性材料又引起了人们的注意.氮掺杂类金刚石薄膜(a-C:H:N)近年来成为人们研究的热点,这主要是源于合成超硬化合物C3N4的理论预言.研究发现,氮的掺入会使a-C:H薄膜的内应力降低,附着力增加,抗磨性能有所提高,而其硬度却有所降低.
类金刚石薄膜、结构研究、非晶含氢碳膜、薄膜制备技术、应用前景、抗磨性能、理论预言、改性材料、内应力、化合物、附着力、多领域、氮掺杂、硬度、热学、面具、力学、基础、化学、合成
23
TB3;O6(工程材料学)
国家自然科学基金50172052、50323007;国家高技术研究发展计划863计划2003AA305670;中国科学院"百人计划"
2004-10-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共1页
431-431