高铌TiAl合金的氧化及其显微结构研究
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1000-6281.2004.04.117

高铌TiAl合金的氧化及其显微结构研究

引用
@@ TiAl基合金具有高的比强度和比刚度以及密度低等特点,在航空、汽车、能源工业具有广泛的应用前景.但由于其室温脆性及高温抗氧化性不强抑制了它的应用.当前,其室温塑性可通过全片层组织的调整得到改善[1].因此,其高温抗氧化性能变为该材料应用的瓶颈,尤为突出.材料的抗氧化性能主要取决于氧化过程中所形成的氧化膜的结构及形态,因此,TiAl合金氧化膜显微结构的电子显微学研究必将为揭示其抗氧化机理、指导合金设计提供有价值的资料.

高铌、合金设计、高温抗氧化性能、应用前景、氧化膜、全片层组织、电子显微学、氧化机理、氧化过程、显微结构、室温塑性、室温脆性、能源工业、材料应用、有价值、强抑制、比强度、比刚度、资料、形态

23

TB3;O6(工程材料学)

2004-10-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共1页

415-415

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

电子显微学报

1000-6281

11-2295/TN

23

2004,23(4)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn