反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究

摘要：

@@ Veprek等[1]报道了采用气相沉积方法获得硬度高达80～105GPa的Ti-Si-N薄膜,令人惊讶!尽管尚无人从实验上重复出这一结果,但大量研究[2]表明,在TiN或其他过渡金属化合物中加入Si,形成以Si3N4界面相分隔并包裹氮化物纳米晶的微结构的确是一条通过微结构设计获得高硬度薄膜的有效途径.

机标关键词：反应溅射、纳米晶、复合薄膜、过渡金属化合物、微结构设计、气相沉积方法、高硬度、相分隔、氮化物、实验、界面、包裹

所属期刊栏目：23

分类号：TB3;O6(工程材料学)

资助基金：上海市专利技术二次开发项目03725052

在线出版日期：2004-10-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：372-372