单晶Si表面微观磨损机理的SEM研究

摘要：

@@ 在微型机电系统和计算机磁记录系统中,硅材料的应用正日益受到重视.这是由于硅材料具有硬度高、表面光洁度好、成本低廉、易于采用集成电路技术制造和有利于器件微小型化等特点.因此,有关硅材料的微观摩擦学问题的研究已成为国际摩擦学领域的前沿课题.

机标关键词：单晶、表面光洁度、微观磨损机理、硅材料、微型机电系统、微观摩擦学、集成电路技术、磁记录系统、微小型化、计算机、制造、硬度、应用、前沿、器件、课题、成本

所属期刊栏目：22

分类号：O76(晶体结构)

资助基金：国家自然科学基金50172052,50175105;中国科学院"百人计划"

在线出版日期：2004-03-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：516-517