多弧离子镀TiN和(TiZrCr)N膜中宏观颗粒的SEM分析

摘要：

@@ 宏观颗粒是阻碍电弧离子镀广泛应用的障碍.它们镶嵌在膜层中,或散布在膜层表面.引起薄膜微区成分和结构的突变,对于工具镀来讲不一定有害,而对于高档模具和装饰来讲无疑是有害的.由于真空电弧阴极斑点局部温度高达8000～40000K,阴极表面的微小熔池产生喷射,最终形成这些宏观颗粒.许多方法用来减少和消除真空电弧离子镀中的大颗粒.本文比较了在直流偏压、直流迭加脉冲偏压和磁场过滤电弧作用下的宏观颗粒特点.

机标关键词：多弧离子镀、宏观颗粒、真空电弧离子镀、真空电弧阴极斑点、直流偏压、微区成分、膜层表面、脉冲偏压、颗粒特点、过滤电弧、温度高、工具镀、大颗粒、装饰、障碍、应用、镶嵌、喷射、模具、局部

所属期刊栏目：19

分类号：TB3(工程材料学)

在线出版日期：2006-09-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：565-566