红外探测器中的异质界面和缺陷的研究

摘要：

@@ 近年来,在遥感、遥测、制导、预警、夜视、深空监视、以及医学诊断等领域中,SiGe/p-Si异质结红外探测器及红外焦平面阵列技术已显示出重要的应用前景[1].为了提高了探测器的量子效率,采用了叠层结构的发射极[2].因此,器件的性能与其微结构、界面状况和其中的晶格缺陷有密切的关系.本文采用定位横断面试样制备技术对三层和六层叠层结构的红外探测器进行了观察,研究了界面的结构和确定了缺陷的特征.衬度像和电子衍射表明,p-Si衬底的表面平整,取向为[100].衬底中未见晶体缺陷.Si0.65Ge0.35叠层被未掺杂(UD)Si层分隔开.

机标关键词：红外探测器、异质界面、晶体缺陷、叠层结构、器件的性能、红外焦平面、制备技术、阵列技术、应用前景、医学诊断、量子效率、晶格缺陷、界面状况、衬底、异质结、未掺杂、微结构、横断面、发射极、制导

所属期刊栏目：19

分类号：TB3(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金69576002

在线出版日期：2006-09-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：507-508