钴铬垂直磁化膜的显微形貌和磁畴结构

摘要：

@@ 用电子束蒸镀和二极直流溅射方法分别制备了钴铬垂直磁化薄膜.1)用VSM及X射线薄膜磁化强度取向摆动曲线的Δθ50等方法做了磁性等测量,结果表明蒸镀和溅射两种方法都能制备出优质钴铬垂直磁化薄膜;2)对Co-Cr垂直磁化薄膜的成分分布及微观形貌用高分辨透射电镜作了晶粒形貌、选区衍射和纳米束斑的能谱分析等研究.其中成分分布结果表明晶界处钴的集聚偏多,而非国际上流行的铬偏多;3)用STM作了晶粒形貌及表面起伏曲线,用AFM、MFM(磁力显微镜)分别做了同一区域晶粒形貌和相应磁畴结构的比较,实验都获得了很好的结果.

机标关键词：钴铬垂直磁化薄膜、显微形貌、磁畴结构、晶粒形貌、成分分布、高分辨透射电镜、溅射方法、电子束蒸镀、磁力显微镜、选区衍射、微观形貌、同一区域、曲线、能谱分析、磁化强度、表面起伏、纳米束、直流、实验、射线

所属期刊栏目：19

分类号：TB3(工程材料学)

在线出版日期：2006-09-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：461-462