斜切基片上同质、异质外延薄膜的TEM研究

摘要：

@@ 钙钛矿结构薄膜如铁电和高温超导薄膜有极大的应用前景和探索新型多元素氧化物薄膜的前途,因此它的外延生长机制引起人们的极大关注.不少人认为螺旋位错岛状生长是YBa2Cu3O7-δ(YBCO)薄膜的本征生长模式[1],因此薄膜表面的平整度极差,使器件应用尚不能达到实现.近些年来,人们对于SrTiO3(STO)基片表面的重构处理作了大量的研究[1,2],得到平台形貌有利于改变钙钛矿结构薄膜的生长机制为台阶流动生长机制,可以得到表面平整的单晶薄膜.本文就是使用斜切1°和10°的STO(001)基片在激光镀膜仪中分别生长STO、YBCO薄膜,将所得薄膜用平面、截面高分辨电镜HREM观察,观察结果证明,采取适当的工艺条件可以获得缺陷极少、表面平整的单晶薄膜,对其生长机制进行了讨论.

机标关键词：斜切基片、异质、外延薄膜、生长机制、结构薄膜、单晶薄膜、薄膜表面、高温超导薄膜、钙钛矿、氧化物薄膜、高分辨电镜、应用前景、台阶流动、生长模式、器件应用、螺旋位错、观察结果、工艺条件、平整度、多元素

所属期刊栏目：19

分类号：TB3(工程材料学)

在线出版日期：2006-09-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：413-414