Vishay发布应用于国防和航天的新款QPL氮化钽薄膜片式电阻
目前,Vishay Intertechnology,Inc.(NYSE)宣布,推出通过QPLMIL—PRF-55342测试的新款表面贴装片式电阻——E/H(Ta2N)QPL,保证可靠性达到100ppm的“M”级失效率。新的E/H(Ta2N)QPL电阻使用耐潮的氮化钽电阻膜技术制造,为国防和航天应用提供了增强的性能规格,包括0.1%的容差和25ppm/℃的TCR。
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TN405(微电子学、集成电路(IC))
2012-12-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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