基于符合计数滤波优化的光量子成像方法

摘要：

量子成像(QI)具有抗侦察、抗干扰和高分辨力等特性,是量子光学领域重要的研究方向.为了解决实际量子成像过程中因环境光引起符合计数值异常所导致成像质量下降的问题,该文提出一种基于符合计数滤波优化的光量子成像方法.首先,对原始的符合计数值进行3层离散小波变换(DWT)得到相应的小波系数;然后,对小波系数中的高频成分进行高斯滤波去噪,并通过小波逆变换得到去噪后的符合计数值;最后,基于该符合计数值,利用线性映射方法实现对目标的量子成像.该文通过仿真分析了图像像素数、单像素曝光时间和符合门宽值对成像结果的影响,并搭建了实际的量子成像光路来验证仿真结果的有效性.

关键词：量子成像、符合计数、小波变换、高斯滤波、数字微镜器件

所属期刊栏目：45

分类号：TN248(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2023-07-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：2089-2097