VHDL高级综合中的多目标工艺映射方法

摘要：

从国内情况看,高级综合系统的目标,即后端CAD版图工具可分为两大类.一类只能接收门级网表;而另一类其单元库较为完备,往往能接收较大颗粒度的宏单元.针对这种情况,本文研究高级综合结果与后端工艺的衔接问题.提出多目标多层次工艺映射(MLTMMT)策略,旨在与多种工艺衔接.解决实现该策略的有关问题. (1)给出多目标工艺映射方法的形式化描述;(2)给出在多个层次上的多目标工艺映射方法;(3)分析研究多种工艺库,提出一种面积和延时的线性模型;(4)给出RTL通用元件集;(5)建立多种工艺VHDL模拟模型.所实现的系统已完成与三种工艺衔接、验证了本文工作.

关键词：高级综合、工艺映射、VHDL、高层次工艺映射、多目标多层次工艺映射

所属期刊栏目：22

分类号：TP391.72(计算技术、计算机技术)

资助基金：中国科学院资助项目;高等学校博士学科点专项科研项目;国家科技攻关项目

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1-5