基于田口试验设计的TiAlN涂层膜基结合力控制参数优化
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1673-5692.2020.07.015

基于田口试验设计的TiAlN涂层膜基结合力控制参数优化

引用
应用模糊集理论对因子的严重度、检测度、可控度建立了相应的模糊语言术语集和模糊数,并结合关联矩阵法建立了适用于田口方法的因子选择模型.对影响高功率脉冲磁控溅射技术制备的TiAlN涂层与硬质合金之间膜基结合力的工艺参数进行选择,应用田口方法对工艺参数基体偏压、脉冲电流、氩氮流量比、工作气压进行优化,优化后的工艺参数组合为基体偏压150 V,脉冲电流60 A,氩氮流量比24/6,工作气压为0.5 Pa.

模糊集理论、关联矩阵、田口方法、膜基结合力

15

TG174.444(金属学与热处理)

2020-09-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

698-702

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

中国电子科学研究院学报

1673-5692

11-5401/TN

15

2020,15(7)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn