10.3969/j.issn.1004-4507.2023.04.004
纳米压印光刻工艺及其制造设备
简要介绍了纳米压印技术的原理及应用,阐述了热纳米压印、紫外纳米压印、微接触压印等纳米压印工艺,分析了每种工艺的特点及优势;同时总结了纳米压印设备的3个关键技术,重点分析了精密对准调平技术、压力控制技术和模板分离技术.
纳米压印、对准、调平、压力控制、模板分离
52
TN305.7(半导体技术)
2023-09-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
14-19
点击收藏,不怕下次找不到~
10.3969/j.issn.1004-4507.2023.04.004
纳米压印、对准、调平、压力控制、模板分离
52
TN305.7(半导体技术)
2023-09-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
14-19
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn