不同腔体结构对优化等离子灰化效果探究
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2023.03.002

不同腔体结构对优化等离子灰化效果探究

引用
为了提高低压等离子灰化工艺的均匀性指标,通过对不同光刻胶灰化工艺效果进行采集分析,针对圆柱形石英工艺腔进行参数优化,着重分析了腔体结构与灰化效果的关系,分别通过ANSYS软件仿真及实际工艺验证,归纳出工艺腔体结构与灰化工艺片内均匀性之间的关系,得出符合工业生产要求均匀性指标的腔体结构参数.

等离子灰化、灰化速率、灰化均匀性

52

TN304.05(半导体技术)

2023-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

5-9,61

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

52

2023,52(3)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn