10.3969/j.issn.1004-4507.2023.03.002
不同腔体结构对优化等离子灰化效果探究
为了提高低压等离子灰化工艺的均匀性指标,通过对不同光刻胶灰化工艺效果进行采集分析,针对圆柱形石英工艺腔进行参数优化,着重分析了腔体结构与灰化效果的关系,分别通过ANSYS软件仿真及实际工艺验证,归纳出工艺腔体结构与灰化工艺片内均匀性之间的关系,得出符合工业生产要求均匀性指标的腔体结构参数.
等离子灰化、灰化速率、灰化均匀性
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TN304.05(半导体技术)
2023-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
5-9,61