离子束溅射镀膜设备及工艺技术研究

摘要：

利用离子束溅射镀膜设备研究了溅射SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(离子束能量、离子束流、氧气流量和靶基距)之间的关系以及薄膜均匀性修正技术.实验结果表明:SiO2薄膜沉积速率随着离子束能量与离子束流增加而增大,随着氧气流量的增加先减小后增大;采用修正板技术后薄膜均匀性明显提高.

关键词：离子束溅射、SiO2薄膜、沉积速率、均匀性

所属期刊栏目：48

分类号：TN305.8(半导体技术)

在线出版日期：2019-10-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：25-28