CMP大盘结构研究

摘要：

在CMP设备中,大盘的整体性能直接影响抛光后晶圆的表面质量和整体面型精度.分析了三种大盘的受力结构,选择应用交叉圆锥滚子轴承的结构为最优.给出了抛光大盘的陶瓷台面的温度控制水道的三个分布模式.

关键词：表面跳动、水压、温度、轴向跳动

所属期刊栏目：42

分类号：TN305(半导体技术)

资助基金：国家02重大专项2009ZX02011-005A

在线出版日期：2013-05-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：33-37