用于LED制造的EVG620HBL GenⅡ掩模对准系统

摘要：

EVG620HBL Gen Ⅱ是EVG用于高亮度发光二极管（HB-LED）批量生产的第二代全自动掩模对准系统。GenⅡ在发布第一代EVG620HBL的1年后推出，提供一个工具平台，主要用于满足HB-LED客户的特定需求，以及市场对降低总所有权成本的不断要求。

关键词：HB-LED、对准系统、掩模、高亮度发光二极管、制造、批量生产、全自动、第二代

所属期刊栏目：41

分类号：TN312.8(半导体技术)

在线出版日期：2012-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：61-61