10.3969/j.issn.1004-4507.2010.09.003
聚焦离子束工作原理及刻蚀性能研究
综述了聚焦离子柬系统的结构和基本原理,介绍了国产化聚焦离子束系统的结构与特点.基于国产化聚焦离子束系统进行了硅材料刻蚀实验,研究了硅材料刻蚀速率与离子束流大小的关系,建立了刻蚀速率与束流大小的关系方程,进行了硅悬梁微结构刻蚀加工.结果表明,国产聚焦离子束系统可满足硅微悬梁结构加工的应用需要.
聚焦离子束、刻蚀速率、离子柱、微悬梁
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TN305.7(半导体技术)
2010-12-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
14-16,32